Tlenek glinu o ultra wysokiej czystości

Krótki opis:

**Przegląd tlenku glinu o ultra wysokiej czystości (UHPA)**
Nasz UHPA, wytwarzany metodą precyzyjnej hydrolizy alkoholanów, osiąga czystość na poziomie 99,9%–99,999% przy wyjątkowej stabilności termicznej (≤1600°C), wytrzymałości mechanicznej i obojętności chemicznej.

**Główne cechy**
- **Czystość atomowa**: Kontrola zanieczyszczeń poniżej ppm
- **Możliwość dostosowania**: Regulowana wielkość cząstek (50 nm-10 μm) i porowatość
- **Wielofunkcyjny**: Wyższa gęstość spiekania, przejrzystość optyczna (>99%) i odporność na korozję

**Główne aplikacje**
◼ **Zaawansowana produkcja**:
• Wzrost syntetycznego szafiru (podłoża LED/wyświetlaczy)
• Precyzyjne polerowanie półprzewodników i optyki
• Wysokowydajna ceramika (obudowy układów scalonych, ogniwa paliwowe z tlenkiem stałym)

◼ **Technologia energetyczna**:
• Powłoki i separatory baterii litowych
• Przezroczysty pancerz i elementy laserowe

◼ **Rozwiązania przemysłowe**:
• Nośniki katalizatorów petrochemicznych
• Prekursory fosforu ziem rzadkich
• Części pieców wysokotemperaturowych

**Formaty**: Proszki nanometryczne, granulki, zawiesiny
**Jakość**: produkcja z certyfikatem ISO 9001, spójność partii

Idealna dla branż wymagających materiałów bez wad, UHPA umożliwia przełom w optyce, energetyce i zaawansowanej ceramice, zapewniając niezrównaną czystość i stabilność działania.


Szczegóły produktu

Tagi produktów


  • Poprzedni:
  • Następny: