**Przegląd tlenku glinu o ultra wysokiej czystości (UHPA)** Nasz UHPA, wytwarzany metodą precyzyjnej hydrolizy alkoholanów, osiąga czystość na poziomie 99,9%–99,999% przy wyjątkowej stabilności termicznej (≤1600°C), wytrzymałości mechanicznej i obojętności chemicznej.
**Główne cechy** - **Czystość atomowa**: Kontrola zanieczyszczeń poniżej ppm - **Możliwość dostosowania**: Regulowana wielkość cząstek (50 nm-10 μm) i porowatość - **Wielofunkcyjny**: Wyższa gęstość spiekania, przejrzystość optyczna (>99%) i odporność na korozję
**Główne aplikacje** ◼ **Zaawansowana produkcja**: • Wzrost syntetycznego szafiru (podłoża LED/wyświetlaczy) • Precyzyjne polerowanie półprzewodników i optyki • Wysokowydajna ceramika (obudowy układów scalonych, ogniwa paliwowe z tlenkiem stałym)
◼ **Technologia energetyczna**: • Powłoki i separatory baterii litowych • Przezroczysty pancerz i elementy laserowe
◼ **Rozwiązania przemysłowe**: • Nośniki katalizatorów petrochemicznych • Prekursory fosforu ziem rzadkich • Części pieców wysokotemperaturowych
**Formaty**: Proszki nanometryczne, granulki, zawiesiny **Jakość**: produkcja z certyfikatem ISO 9001, spójność partii
Idealna dla branż wymagających materiałów bez wad, UHPA umożliwia przełom w optyce, energetyce i zaawansowanej ceramice, zapewniając niezrównaną czystość i stabilność działania.